Hoja de grafito isostático SGL R8340 para uso industrial

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Modelo: R8340

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SGL R8340

R8340 es un material isotrópico grande, el grafito fino, con un precio muy alto, mientras que tiene una alta tasa de eliminación de metal y tasa de descarga, para una elección de cavidad grande para el material del electrodo. Aplicación: Adecuado para moldes de fundición a presión, moldes de forja; moldes de inyección en general para electrodos de desbaste y acabado; como el moho de automóviles y el moho doméstico común.

Mejore el valor con tecnología Soluciones para la industria de semiconductores

Grafito de alta pureza para la industria de semiconductores

Con el vigoroso desarrollo de aplicaciones terminales como las comunicaciones 5G, los vehículos de nueva energía, el Internet de las cosas, los teléfonos inteligentes y la electrónica de consumo, la escala del mercado de semiconductores sigue creciendo.

El desarrollo de los semiconductores es inseparable de la aplicación de materiales de grafito en la industria de los semiconductores. desde la producción de materiales de polisilicio para obleas de silicio semiconductor hasta el crecimiento de cristales semiconductores (ya sea crecimiento de un solo cristal de Cz, crecimiento de un solo cristal de zafiro o crecimiento de un solo cristal de Sic), luego hasta el procesamiento de obleas de silicio semiconductor (incluida la fusión de zonas, la epitaxia, el procesamiento de perfiles, etc.) y el procesamiento posterior de obleas, el proceso de implantación de iones. Los materiales de grafito son herramientas auxiliares indispensables o componentes importantes.

La alta pureza es un requisito clave para los componentes de grafito para semiconductores

Los procesos de fabricación de semiconductores implican altas temperaturas, gases de proceso altamente corrosivos y fuertes

Campos magnéticos. Como expertos en la fabricación de grafito de alta pureza, hemos desarrollado materiales con la más alta

pureza (contenido de cenizas <5 ppm) en respuesta a los estrictos requisitos de alta pureza y bajo contenido de cenizas de

Los componentes de grafito en el proceso de producción de semiconductores y el contenido de boro y fósforo son de un solo dígito. Varios niveles de ppb para hacer frente a los entornos de aplicaciones particularmente desafiantes de los clientes.

Bulk Density	1.74g/cm³	Average Grain Size	11μm	Permeability	15×10⁻²cm²/sec
Open porosity	15%	Pore size	2.0μm	Hardness	80Hrc
Flexural Strength	45N/mm²	Young's modulus	11.5KN/mm²	Specific Resistivity	12μΩ.m
Thermal conductivity	90W・m⁻¹・K⁻¹	Coefficient of thermal expansion 20-200c	3.2×10⁻⁶K⁻¹	Ash content max	0.02%

SGL R8340 es una opción isotrópica fina rentable en materiales de grafito. Es una excelente opción para la fabricación de electrodos de grafito (especialmente para cavidades grandes) debido a sus altas tasas de eliminación y descarga de metal. Este grafito también es adecuado para aplicaciones de moldes de grafito, incluidos moldes de fundición a presión, moldes para automóviles y moldes para electrodomésticos, y admite procesos de desbaste y acabado.

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